Etikett Atomlagenabscheidung

Atomic Layer Deposition (ALD) ist eine Dünnschichtabscheidungstechnik, die in der Nanotechnologie und Halbleiterfertigung eingesetzt wird. Dabei werden nacheinander Atomschichten aus verschiedenen Materialien auf einem Substrat abgeschieden, um präzise und konforme Beschichtungen mit hervorragender Dickenkontrolle zu gewährleisten.

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