Jour Dépôt de couche atomique

Le dépôt de couche atomique (ALD) est une technique de dépôt de couches minces utilisée dans la nanotechnologie et la fabrication de semi-conducteurs. Il s’agit de déposer séquentiellement des couches atomiques de différents matériaux sur un substrat, garantissant ainsi des revêtements précis et conformes avec un excellent contrôle de l’épaisseur.

Faire progresser l’ingénierie des surfaces : le revêtement sous vide

Table des matières Qu'est-ce qu'un revêtement sous vide ? Principes de base Environnement sous vide Évaporation Pulvérisation Placage ionique Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) Types de technologie de revêtement sous vide Dépôt physique en phase vapeur (PVD) Revêtements Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) Revêtements Pulvérisation magnétron Dépôt de couche atomique…

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