Etichetta Deposizione dello strato atomico

L'Atomic Layer Deposition (ALD) è una tecnica di deposizione di film sottili utilizzata nella nanotecnologia e nella produzione di semiconduttori. Implica il deposito sequenziale di strati atomici di materiali diversi su un substrato, garantendo rivestimenti precisi e conformi con un eccellente controllo dello spessore.

Avanzamento dell'ingegneria delle superfici: rivestimento sottovuoto

Sommario Che cos'è un rivestimento sotto vuoto? Principi di base Ambiente sotto vuoto Evaporazione Sputtering Placcatura ionica Deposizione chimica in fase vapore (CVD) Tipi di tecnologia di rivestimento sotto vuoto Deposizione fisica in fase vapore (PVD) Rivestimenti Deposizione chimica in fase vapore (CVD) Rivestimenti Magnetron Sputtering Deposizione di strati atomici...

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